広島メタル＆マシナリー ケムテック事業部

分散ウルトラアペックスミル　アドバンス / ADV特許技術

最高クラスの超低インパクトのナノ分散対応湿式マイクロビーズミル

概要

　当社ラインアップ中で最も低ダメージ分散ができるビーズミルです。φ15μm～φ50μmビーズ使用で低インパクト攪拌が特徴の「超低ダメージのナノ粒子分散」に最適化した湿式マイクロビーズミルで、ワイドセパレーターアペックスミルの発展型です。
　新設計の扁平な攪拌・ビーズ分離兼用ローター（特許技術）を有する湿式ビーズミルで、低遠心力の処理が可能です。ビーズの攪拌速度は十分に維持したまま、ビーズからナノ粒子への衝撃力を緩和することで、ビーズ量当たりの処理速度を維持したまま、ナノ粒子へのダメージを最小限に抑えます。
　また、最新のナノ分散ニーズに応えるため、ミル内ビーズの攪拌エネルギーを均一にするローター設計で均質な分散処理ができます。

特長

1. 最高クラスの超低ダメージナノ粒子分散ができるビーズミル！

超低インパクト処理が可能で、柔らかい粒子やナノ粒子のスラリーでも、低ダメージでナノ分散処理ができるビーズミルです。100nmクラスのチタン酸バリウムや有機顔料などの従来ビーズミルでは適正処理できない柔らかいナノ粒子の分散に適用できます。

2. ナノ粒子スラリーの分散処理で粘度上昇・ゲル化を抑制する！

粒子ダメージに伴う微細破片を最小限に抑えられ、ナノ粒子でもスラリー粘度抑制やゲル化防止が可能なビーズミルです。スラリーの流動性確保や製品スラリーの長期保管時の安定性向上に効果があります。

3. ナノ粒子の粒度分布をシャープにできる！

ビーズミル内攪拌力の均一性が高いため、分散度合がスラリー内で均一であることと、粒子破片を抑制できることから、数10nmのナノ粒子でもシャープな粒度分布が得られます。製品性能改善が可能で、製品設計の時に予想される製品性能を量産条件で再現できます。

構造

運転条件

使用可能ビーズ径

Φ15μm〜Φ0.3mm

ビーズセパレータ周速

6m/s〜18m/s

用途例および最終製品例

高粘性対応

光学材料（樹脂原料中　ジルコニア・シリカのナノ分散）、導電性塗料、化粧品（オイル中　酸化チタン・酸化亜鉛の分散）など

低ダメージ分散対応

電子材料（チタン酸ベリウム、中空シリカ）、電極材料（ナノ銀、ニッケルなど）、熱線遮断材（ITOなど）、光触媒（酸化チタン）、
液晶顔料など

アペックスミルシリーズのラインナップ紹介

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